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What’s new in CEREC 4.5 ?
CEREC 4.5 is now available! What is included in the update.

雖然今年 3 IDS 時就已經發表 CEREC 4.5 ,甚至都出到 4.5.2 了,但相信很多人對他還是相當陌生。究竟和 CEREC 4.4 差在哪裡呢?做了什麼改進,多了哪些新功能?就讓我們花五分鐘透過這顆 single crown 快速了解他!


管理選單

從一開始的選單部分就可以看出差異:

圖一、 右邊是 4.5 ,除了自動偵測之外,材料與研磨機也可以使用預設,之後再做修改。

4.4 在管理訂單時要點選牙位、並分別點選修復體類型、研磨機與材料才能進入口掃,因此若同時有多種贋復體如 crown、veneer、inlay 要製作時,在訂單就會令人煩躁。而 4.5 多了自動偵測功能,只需選擇牙位就可以進入口掃,畢竟材料和研磨機不一定是口掃前就能決定的。

圖二、 4.5 的 workflow 更加順暢與精簡。

 

圖三、 自動偵測贋復體類型,不用再分別點選 crown、veneer、inlay 等。DSD 與虛擬咬合器功能也能在此階段開啟。

口掃

口掃的部分也做了不少改變:


自動裁切:
對於剛接觸口掃的醫師而言,舌頭、臉頰是非常惱人的,因此 4.5 新增了自動去除干擾物的功能。大部分的臉頰及舌頭馬上就會消失在螢幕上,剩下的部分在模型運算後也會消失
(請參考影片一)。除了 CEREC 4.5 之外,CEREC Ortho 和一些其他廠牌的口掃機也有自動裁切功能,但還是建議大家在口掃時儘量避免掃到太多臉頰、舌頭,因為這些可移動的組織可能會影響疊圖的精準度。

影片一、從口掃到模型處理,以及自動裁切臉頰與舌頭。

 

頰側掃描時 ( 取 bite ),若上顎或下顎有疊合成功,會淡淡地出現在背景 ( 見圖四 ) ,上下顎都疊合成功就會亮起綠勾勾。這個功能讓我們在掃描階段就知道頰側掃描是否成功,不必等到下個階段才知道是否需要重掃。

圖四、 頰側掃瞄和上下顎疊合成功,會顯示在背景並打綠勾勾。

 

4.4 以前,掃瞄階段進到模型階段需要等待電腦計算模型,往往需要等到數分鐘;4.5 在掃瞄的同時,電腦就在背景計算模型,大幅縮短了等待的時間 (見影片一)。

圖五、口掃時就同步計算模型,省下不少等待時間。

3D 模型處理

 

CEREC OmniCam 在 4.4 版本之前,口掃後所得到的 model 檔案都是給 CEREC 設計軟體與研磨機讀取的專屬檔案格式,而 4.5 版本之後,model 輸出的檔案格式有了更多的選擇:可以直接匯出 .stl」的通用檔案格式,並且可以選擇低、中、高三種不同解析度的 .stl 檔案,讓口掃 model 能應用在數位牙科的其他領域,如:模型 3D 列印、T-scan 咬合分析、隱形矯正設計軟體等

Dentsply Sirona 在 IDS 發表 4.5 支援 .stl 的功能之後, 3Shape 隨後也表示 Trios 即將支援匯出 .stl 檔案的功能,並預計在 2018 年初隨著版本的更新釋出,希望藉由 .stl 的通用檔案來支援更多數位牙科的軟硬體與應用。

 

 

圖六、 CEREC 4.5 可以匯出通用的 .stl 格式,不像以前必須匯入 Inlab 軟體才能匯出,有三種解析度選擇。

 

進到模型階段後,可以發現 4.5 對於色彩的處理很不一樣。第一眼看上去就會發現色澤和以前差很多,雖然有些 user 覺得變很亮、反光很強不太習慣,但掃同一個模型,4.5 的顏色較為鮮豔、擬真。這是因為 4.5 推出了自動比色的功能,因此顏色的處理需要更精確。而自動比色的功能相信大家都知道,在此就不贅述。

圖七、 4.5 對於光線、色彩的處理和以往不同。

 

除了顏色,4.5 的模型更加清晰、銳利 ( 見圖八 ),因此更容易判斷 margin 的位置,細緻的表面特徵也較能掌握。

 

圖八、 4.5 的模型相對來說更加銳利,較能掌握細節,畫 margin 更加容易。

Implant 掃描窗格

在 implant 方面,以往是將 scan post 掃入上顎或下顎的掃描窗格,並且用這個模型去和頰側掃描疊合。但因為 scan post 太長,頰側掃描時常常需要取下,或戴著 healing abutment 掃,可能造成 bite 疊合的誤差

 

圖九、 Bite 疊合完後發現 scan post 插入對咬的牙齒中,可能造成咬合誤差。

 

4.5 增加了 scan post 的掃瞄窗格,因此掃上顎或下顎時可以裝 healing abutment 或是什麼都不裝,就不會因為有長長的 scan post 影響了頰側咬合的運算。

 

圖十、 多了 scan post 的窗格,下顎和頰側掃瞄都可以戴著 healing abutment 掃,降低咬合疊合誤差的機會。

 


研磨策略

最後卻很重要的一點,以往在 margin 處的研磨策略是:若有 bur 無法磨到的尖銳處,就少磨一些,也就是所謂的 undermilling ,會造成該處些微墊高而需要臨床調整;4.5 的 margin 研磨策略和內冠一樣為 overmilling,也就是有比 bur 尖銳的突起處,就多磨一些,確保贋復體能戴到底。

 

用說的或許有點難以理解,就讓我們看圖片吧!

 

為了展示 4.5 研磨策略的改進,我們特別做出了一顆 margin 有尖銳突起的支台齒。由圖十一可以知道,CEREC 4.4 版本的研磨策略選擇忽略,導致整個 crown 被突起的 margin 墊高;而 CEREC 4.5 的研磨策略則是選擇磨穿,雖然在 margin 突起處產生了一個小縫隙,但整個 crown 都能夠 try 到底。

 

圖十一、 4.5 當 margin 處有比 bur 尖銳的不規則處時,會選擇打穿它,確保贋復體能 try-in 到底。

 


結論

雖然 Dentsply Sirona 沒有推出什麼硬體的更新,但軟體的進步也能帶給使用者全新的感受!

在介紹 CEREC 4.5.2 的更新之前,先讓我總結一下 CEREC 4.5 對於 user 較有感的改變:

  • 順暢提升:增加了自動偵測贋復體的功能、掃描時同步計算模型,減少許多等待時間。
  • 口掃體驗:自動裁切臉頰等干擾、 bite 疊合成功提示。
  • 視覺優化:色彩更加鮮豔擬真、模型更銳利與清晰、自動比色功能。
  • 開放格式:口掃完即可輸出 .stl 格式的通用檔案,運用更多樣。
  • 植牙掃描:新增 scan post 專用的掃描窗格,避免咬合運算干擾。
  • 研磨策略:遇到尖銳處會採用 overmilling ,使贋復體更容易戴到底。

希望藉由更新介紹,讓使用者能快速上手;然而除了帶來的好處之外,研磨策略改變對於醫師 prepare 或技師繪製 margin 有沒有需要注意的? 植牙掃瞄窗格如何運用最好? 這些都會在 CEREC Asia 的課程中進行討論,敬請期待!

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